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高壓水清洗去污是以水為工作介質(zhì)，噴出的高壓水射流切向或正向沖擊被清洗物體（工件）表面，當(dāng)高壓水射流的沖擊力大于污染物與物體表面的附著力時(shí)，即可將污染物清除。目前...
一、產(chǎn)品簡介
高壓水清洗去污是以水為工作介質(zhì),噴出的高壓水射流切向或正向沖擊被清洗物體(工件)表面,當(dāng)高壓水射流的沖擊力大于污染物與物體表面的附著力時(shí),即可將污染物清除。目前高壓水清洗去污技術(shù)已廣泛的應(yīng)用到石油,冶金,航空,建筑、核工業(yè)、化工等領(lǐng)域。針對(duì)放射性污染去污的高壓水清洗去污裝置主要由不同壓力的高壓水發(fā)生裝置和專用操作工裝組成。
二、應(yīng)用領(lǐng)域
1.適用于密閉核設(shè)施,如反應(yīng)堆水池、廢水池、手套箱、熱室、工作箱等放射性表面污染內(nèi)壁的在線去污作業(yè)(需配套在線清洗去污專用工裝);
2.適用于在役放射性污染設(shè)備、管道離線去污作業(yè)(需配套離線清洗去污專用操作氣帳);
3.適用于核設(shè)施退役期間污染部件的離線去污作業(yè)(需配套離線清洗去污專用操作氣帳);4.適用于核設(shè)施退役期間深度去污工藝,如化學(xué)浸泡去污、電解去污、超聲波去污等后續(xù)的漂洗去污作業(yè)(需配套離線清洗去污專用操作氣帳)。
三、主要技術(shù)指標(biāo)
1.對(duì)于松散型放射性表面污染,去污后可達(dá)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的清潔解控水平以下。
2.主要技術(shù)參數(shù)
·流量:10L/min~40L/min;
·最高工作壓力:10MPa~150MPa;
·電源:380V/50HZ。
四、產(chǎn)品特點(diǎn)
1.系統(tǒng)組成靈活,對(duì)于不同的場景,可設(shè)計(jì)不同的解決方案;
2.可選擇的壓力范圍廣(10MPa~150MPa),對(duì)于在役設(shè)備的去污,可選擇合適的工作壓力使得去污對(duì)設(shè)備表面的損傷在可接受范圍內(nèi);
3.可以對(duì)形狀和結(jié)構(gòu)復(fù)雜的部件進(jìn)行去污,且去污后無需進(jìn)一步漂洗。
